LT3 Helitran ヘリウムフロークライオスタット

LT3B


LT3 Helitran

ARS社のHelitranクライオスタットは、液体ヘリウム(又は液体窒素)をフローさせることで温度を4.2K以下(液体窒素使用の場合77K) まで下げます。  独自の設計によりトランスファーチューブ内をクライオスタットの中まで流れるチップフローとラジエーションシールド用シールドフロー の2層になった液体寒剤が流れ、 更にその外側をリターンガスが流れることで2重に熱シールドしています。  その為チップフローはミスト化や振動を起こさずに4.2K(又は 77K)を保ったままクライオスタット内に到達するので、 高い温度安定性と、極めて低い振動レベルを可能に。このためその低振動性を生かしSPMアプリケーションの実績もあります。

シールドフロー式トランスファーチューブ

Coaxial Shield Flow

通常のフロー式クライオスタットでは、断熱真空中におかれたキャピラリーに対して、輻射による熱流入を抑えるため スーパーインシュレーションを使用しています。しかし輻射熱によりキャピラリー中の液体ヘリウムは気化しそれが泡となるため 一時的にヘリウムの流れをブロックします。これによりトランスファーチューブから液体がでる際、気体も混じることで圧力と温度の変動を伴います。

ヘリトランクライオスタットに使用されるトランスファーチューブでは、キャピラリーの周りに同軸状に配置されたシールドフローラインを採用しています。 シールドフローの”入り口”に設けられたノズルによりシールドフロー中の液体ヘリウムを減圧し中心にあるキャピラリーを冷却します。 これにより非常に低い流量においてもクライオスタットに供給される液体ヘリウムは気化せずに熱交換器に到達することができます。 この仕組みによりヘリトランでは高い温度安定性と低振動を実現しました。

マトリックス熱交換器

Matrix Heat Exchanger

ヘリトランではマトリックス熱交換器により大きな表面積を確保し、液体ヘリウムと試料マウント間の高効率な熱交換を実現しています。 液体ヘリウムが試料マウント内を流れる際、蒸発の際の潜熱を奪い冷却が行われます。さらに気化したヘリウムガスも 試料マウントの冷却に使用されます。ガス流量を最適化した場合、熱交換器から出てくるヘリウムガスの温度は試料温度に等しくなります。 またこのような仕組みの無いクライオスタットでは室温(300K)から4.2Kまで冷却する際40倍もの液体ヘリウムを必要とします。


アプリケーションとLT3シリーズ

      
アプリケーションモデル特徴
分光測定一般、電気測定、磁気光学、低温SPMLT3超低振動、高安定クライオスタット
顕微分光、顕微ラマン、顕微PLLT3-OM超低振動、低ドリフト
ESR, EPR, NMRLTR液体、粉末、バルク試料に対応
UHV環境中分光測定、UHV環境低温SPMLT3-B超低振動、UHV環境
分光測定一般LT4ローコスト、汎用クライオスタット

特徴

  • 液体ヘリウムフロー型クライオスタット
  • マトリックス熱交換器による高効率冷却
  • シールドフロー式トランスファーチューブ
  • 液体ヘリウム消費量(4.2K):0.7 L/hr
  • 液体窒素運転可能
  • オングストロームレベルの振動レベル
  • 精密フロー制御
  • 排気ガス用ヒーター
  • 設置方向自由
  • カスタム可能


LT3仕様
冷凍機LT3
冷媒液体ヘリウム
最低温度4.2K<2K (減圧時)
液体ヘリウム消費量0.7 L/hr2 L/hr(減圧時)
最高温度450K
冷却時間(RT→4.2K)20分
重量0.9 kg

LT3振動レベル

Helitran vibration level

800K interface

800Kインターフェース

450 interface

450Kインターフェース

800Kインターフェース

熱スイッチを内蔵することで、試料を800Kまで加熱することができます。800Kインターフェースは、クライオスタットの試料部に取り付き、 内蔵の熱スイッチにより高温の試料からクライオスタット側に熱が逃げることを防ぎます。また過熱を防ぐ保護スイッチを内蔵しています。 試料とクライオスタットの間に取り付けますので、 800Kインターフェース使用時は、試料位置は標準より長くなります。 Helitran,Displex両タイプとも取り付け可能ですが、冷凍機のタイプにより最高温度の低下や、 取り付けられない場合もありますのでご了承ください

450Kインターフェース

熱スイッチを内蔵することで、試料を450Kまで加熱することができます。 クライオスタットと試料ホルダーの間に取り付け、高温の試料からの熱の流入を抑えます  


アクセサリ
透過用試料ホルダー透過測定用の試料ホルダーです。アパーチャーーサイズは直径19mmです。OHFC銅製で、 輻射を抑えるためニッケルメッキされています。 このホルダーは 25.2 mm径, t=1 mmの光学窓を取り付けることができます SHO-1A
透過用試料ホルダー(ラージ)透過測定用の試料ホルダーです。アパーチャーは35mmX19mmありますので、大きな試料の測定に使用できます。OHFC銅製で、輻射を抑えるためニッケルメッキされています。 このホルダーは 41 mm x 22 mm t=1 mmの長方形の光学窓を取り付けることができます。このホルダーの使用にはDMX-16、又はWMX-16シュラウドセットが必要になります SHO-16A
フラットプレート反射測定用試料ホルダーです。OHFC銅製で、 輻射を抑えるためニッケルメッキされています。ラマン測定などに使用されます SHNO-1B
電気抵抗測定用ホルダー抵抗測定・ホール測定用試料ホルダーです。プローブ数は2,4,6から選べます SHE-4-2
透過及び抵抗測定ホルダー4本電極が付いた透過測定用ホルダーです。OHFC銅製で、 輻射を抑えるためニッケルメッキされています。このホルダーにはサファイアー窓が付いており、 0.032mmの銅ターミナルピンが4本付いています。他のサイズは標準の透過型ホルダーと同じです SHE-1A
液体用ホルダー液体セル。 OHFC銅製で、 輻射を抑えるためニッケルメッキされています SHLC-16B
EPR/ESR銅ロッドOFHC銅ベースに直径3mmのOFHC銅製ロッドが取り付けられたものです SHEPR-15A
EPR/ESRサファイアロッドOFHC銅ベースに直径2mmのサファイア製ロッドが取り付けられたものです。サファイアロッドの周りには、5mm径の石英チューブが付いており、ラジエーションシールドとして機能します SHEPR-15B
DIP用ホルダーDIPソケットが付いています。DIPのサイズをご指定ください。OHFC銅製で、 輻射を抑えるためニッケルメッキされています SHDP-16A
X線回折用ホルダーX線回折用のホルダーはOHFC銅製で、 輻射を抑えるためニッケルメッキされています。ただし中心部の窪み部は熱接触をよくするためにメッキが施されていません SH-XRAY
磁気光学用ホルダーOHFC銅により作られています。電磁石にクライオスタットを取り付けるため小型になっております SH-button
カスタムホルダーお客様のご要求に合わせて試料ホルダーを作成いたします。ニッケルメッキ、金メッキなども可能です Custom